本研究是製作及探討將元件中的倍增層結構由塊材式(bulk)結構更換成超晶格(super lattice)結構雪崩型光偵測器之特性。以MBE的磊晶方法成長25對InAlGaAs/InAlAs的量子井,以人為的方式去增加III-V族材料的電子與電洞之游離能力差異,以提高元件的特性。分別對塊材式及超晶格式雪崩型二極體元件特性進行比較分析,其中包含電流-電壓特性分析及其他運算等。根據理論的計算,推算元件在工作時,倍增層的電場> 4.4 × 105 V/cm,吸收層的電場< 2 × 105 V/cm;經由特性分析發現,以超晶格結構為倍增層時確實能提高電子電洞的撞擊游離係數,並降低元件暗電流之特性,其暗電流可以降低一個數量級。 |