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篇名
多重量子井P-N接面之光檢測器
作者 邱裕中張勝博
中文摘要
在本實驗中我們研製出半透明鎳/金(Ni/Au)電極之氮化銦鎵/氮化鎵(InGaN/GaN)多重量子井(Multi-Quantum Well)p-n接面光檢測器並描繪其特性。對多重量子井p-n接面光檢測器施加0.4V反向偏壓時,發現崩潰電壓可高達20伏特、光電流和喑電流比約為105。在施加0.1V和3V反向偏壓時,波峰響應在波長為380nm時分別為1.28 A/W和1.76 A/W而且,研究發現氮化銦鎵/氮化鎵多重量子P-N接面光檢測器之增益,很可能是由於與氮化鎵GaN材料本身之載子生命週期有關。另外光檢測器之低頻雜訊符合1/f雜訊模式。當光檢測器偏壓在-3V及入射光波長為380nm時,其響應度大約為1.76 A/W。在頻寬為500Hz時,其相對應的雜訊等效功率(NEP)和正規化檢測度分別為6.34×10-13W和4.45×1011 cmHz0.5W-1。
英文摘要
InGaN/GaN multi-quantum well (MQW) p-n junction photodiodes with semi-transparent Ni/Au electrodes were fabricated and characterized. The InGaN/GaN MQW p-n junction photodiode exhibits a 20 V break down voltage and a high responsivity at 380 nm was 1.28 A/W and 1.76 A/W with a 0.1 V and 3 V applied reverse bias, respectively. At low frequency, the noise exhibits the 1/f type noise. For our 400 400 µm2 device, given bias of -3 V, at bandwidth of 500 Hz, the corresponding noise equivalent power (NEP) and normalized detectivity D* are calculated to be W and 4.45×1011 cmHz0.5W-1, respectively.
起訖頁 31-37
關鍵詞 氮化鎵p-n接面多重量子井光檢測器1/f雜訊GaNp-n JunctionMQWphotodiode1/fnoise
刊名 真空科技  
期數 200411 (17:3期)
出版單位 台灣真空學會(原:中華民國真空科技學會)
該期刊-上一篇 以光激化學氣相沉積系統成長二氧化矽作為砷化鎵金氧半電容之絕緣層
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