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法律
理律法律雜誌雙月刊
202603 (2026:3期)
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篇名
台灣專利實務No.202603
中文摘要
專利授權登記與否如何對先後被授權人之權利地位產生影響?/沈宗原;葉祖吟
專利經核准更正可否作為再審事由?/吳詩儀
申請專利範圍特徵解讀為手段/步驟功能用語可以因應先前技術之挑戰嗎?/陳初梅
起訖頁
3-7
刊名
理律法律雜誌雙月刊
期數
202603 (2026:3期)
出版單位
理律法律雜誌社
該期刊-上一篇
重點論述:著作權集體管理團體授權爭議:給付與提存使用報酬不當之著作權侵權風險
該期刊-下一篇
台灣商標實務No.202603
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