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篇名
高頻記憶體,重塑2026年半導體版圖
作者 王岫晨
中文摘要
AI對HBM的強勁需求,正對傳統DRAM生產造成深遠的虹吸效應。在半導體製造中,HBM存在著嚴重的位元懲罰:生產相同容量的HBM,所消耗的晶圓面積約為傳統標準DDR5的3倍以上。本文將從AI引發的產能虹吸效應出發,深入探討三大記憶體廠的戰略調整,並展望2026年HBM4技術的關鍵轉折。
起訖頁 48-51
刊名 CTIMES:零組件雜誌  
期數 202602 (411期)
出版單位 CTIMES(遠播資訊股份有限公司)
該期刊-上一篇 以科學革命的結構解析實體AI零組件雜誌資深編輯王岫晨
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