淺談兩造對審架構下專利爭議案件之更正制度──以美國及德國制度為鑑

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篇名	淺談兩造對審架構下專利爭議案件之更正制度──以美國及德國制度為鑑
作者	陳盈竹、吳韶淳、林希彥
起訖頁	6-26
刊名	智慧財產權
期數	202203 (279期)
出版單位	國立高雄大學法學院
該期刊-下一篇	日本更正再抗辯實務研析