民法第185條第2項適用於專利侵權爭議之構成要件與內涵──從智慧財產法院105年度民專訴字第66號民事判決談起

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篇名	民法第185條第2項適用於專利侵權爭議之構成要件與內涵──從智慧財產法院105年度民專訴字第66號民事判決談起
作者	李素華
中文摘要	系爭專利乃應用於半導體產業之化學製劑CMP，由專利說明書及判決內容可知，CMP組合物包括「鐵觸媒」及「氧化劑」兩個成分，其亦為系爭專利之技術特徵。被告所產銷之系爭產品僅有鐵觸媒成分，未包含氧化劑，惟系爭產品之買受人僅需自行添加氧化劑後，即可作成CMP組合物及使用於半導體製程。本件訴訟之爭點在於：針對被告產銷CMP組合物重要成分之行為，專利權人有無主張權利之可能？專利法未有規定下，能否以民法第185條第2項為請求權基礎？前揭民法條文應如何適用於專利侵權案件？
起訖頁	31-39
關鍵詞	專利、專利權侵害、間接侵權、侵權行為、幫助
刊名	裁判時報
期數	201910 (88期)
出版單位	元照出版公司
DOI	10.3966/207798362019100088004 複製DOI
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