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全球TSV 3D IC發展趨勢分析
作者 涂輝忠
中文摘要
因應市面上終端電子產品輕薄短小、多功能、快速、省電的發展趨勢,IC封裝技術也隨之從單一晶片封裝往系統級封裝的方向走;而在系統級封裝的眾多技術種類中,TSV 3D IC技術透過矽穿孔可將晶片立體整合,最節省空間且效能最高,因此被視為是封裝技術發展的趨勢目標。發展至今,全球僅部分同質晶片整合使用TSV 3D IC技術,其總產值亦不高;然而,未來幾年預期部分國外大廠將突破技術瓶頸,產值預估將有高度成長。因此本文將由TSV 3D IC之技術、市場與產業構面進行分析,探討全球TSV 3D IC之發展趨勢。
起訖頁 32-35
刊名 CTIMES:零組件雜誌  
期數 201508 (286期)
出版單位 CTIMES(遠播資訊股份有限公司)
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