研析虛線對解釋申請專利之設計的影響－－以美國iPhone設計專利單方再審查案為中心

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篇名	研析虛線對解釋申請專利之設計的影響－－以美國iPhone設計專利單方再審查案為中心
作者	葉哲維、徐銘夆
起訖頁	41-70
刊名	智慧財產權
期數	201705 (221期)
出版單位	經濟部智慧財產局
該期刊-上一篇	美國音樂集管團體新媒體授權的挑戰與困境