電解沉積製備具有多段材質之奈米金屬線

Preparation of Nanowires with Multiple Electrodeposited Segments of Different Metals

藉由陽極氧化鋁模版運用電化學沉積製備Cu/Ni 多段奈米線，經光學顯微鏡、場發射掃瞄式電子顯微鏡觀察Cu/Ni 多段奈米線其直徑80 nm、長度各為10 μm，用X 光繞射分析儀分析Cu/Ni 多段奈米線具多晶之立方面心組織。穿透式電子顯微鏡觀察奈米金屬均勻地填滿並排列整齊之陣列形貌，運用擇區繞射鑑定晶體結構為面心立方結構。在溫度300 K 下，經振動樣品磁度儀對銅/鎳奈米陣列進行磁性量測，垂直底材方向（H⊥）施加磁場，其矯頑磁力（Hc）為435 Oe，角形比（Mr/Ms）為0.3，水平底材方向（H//）施加磁場，其矯頑磁力為135 Oe，角形比為0.066。結果顯示採用多段分別於銅及鎳鍍液電鍍，可獲Cu/Ni 多段奈米線，且Cu/Ni 多段奈米線易磁化方向為奈米線軸向。