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篇名
曲線技術:推動邏輯技術變革的技術
作者 imec (imec)
中文摘要
為先進邏輯應用來製造晶片先要設計電路。這套流程在不同層面進行:從電晶體到標準單元與佈局佈線,最後是系統設計層面。接著把形成電路設計佈局的那些圖形寫入光罩上。目前是透過運用電子束的光罩製作工具來做到這點,例如可變形電子束(variable shaped beam)光罩寫入機和多波束光罩寫入機(multi-beam mask writer)。
起訖頁 12-16
刊名 CTIMES:零組件雜誌  
期數 202512 (409期)
出版單位 CTIMES(遠播資訊股份有限公司)
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