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篇名
無機多層鍍膜在可撓式有機顯示器之構裝應用
作者 武東星陳采寧吳嘉城林彥嘉蔣承忠陳永培
中文摘要
本實驗利用電漿輔助化學氣相沈積系統(PECVD),於80°C之下,在塑膠基板上沈積水氣與氧氣阻障膜。在本文中,我們採用氧化矽與氮化矽薄膜,重複堆疊於聚碳酸酯(PC)基板上。利用氬氣(Ar)電漿對塑膠基板之前處理,有效的改善無機膜與基板間之附著性,經Ar氣電漿處理60秒後,薄膜附著性提升至約10 N/mm2。藉由調整結構中各層無機膜(氧化矽/氮化矽)沉積之功率,來調變薄膜內應力,除了有效的降低水氧氣透過率,亦能同時兼具可撓性。最後在塑膠基材上重複堆疊氧化矽/氮化矽之多層結構,其可見光穿透率可達87%以上。由鈣測試法得知,在25°C、相對溼度40%之下,水氣透過率可由25 g/m2/day降至3.12×10-6 g/m2/day,經5000次撓曲測試後,水氣透過率約為3.54×10-5 g/m2/day。
起訖頁 140-146
關鍵詞 電漿輔助化學氣相沈積水氧氣透過率氧化矽氮化矽
刊名 真空科技  
期數 200611 (19:2期)
出版單位 台灣真空學會(原:中華民國真空科技學會)
該期刊-上一篇 高密度電漿化學氣相沉積法成長含氧氮化矽作為氫離子感應膜之研究
該期刊-下一篇 創新性無電鍍沉積超薄鈷基阻障層在銅金屬化之應用
 

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