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篇名
偏壓輔助磁控濺鍍共沉積銅錫介金屬薄膜負極材料及電化學特性之研究
作者 陳威佑邱國峰林昆明林新智
中文摘要
本研究利用磁控濺鍍共沉積 Cu6Sn5介金屬薄膜製備鋰離子二次電池負極材料,藉由調整銅與錫之濺鍍功率以獲得不同沉積量來控制銅錫介金屬薄膜之組成化合比。施予不同臨場負偏壓,以輔助薄膜沉積及調控離子轟擊能量達到臨場改質(in-situ modification)的效果,並探討不同負偏壓參數對電容量與循環壽命之影響。實驗結果顯示,未施予負偏壓沉積之銅錫介金屬薄膜,其結晶型態近似於奈米晶,當施於基座負偏壓提升至100VDC時,所產生之離子轟擊效果能有效提升薄膜的緻密性與結晶性,並降低循環充放電時電容量損失率,而第一次不可逆電容量也有降低之趨勢。
起訖頁 60-64
關鍵詞 磁控濺鍍共沉積法Cu6Sn5臨場負偏壓
刊名 真空科技  
期數 200611 (19:2期)
出版單位 台灣真空學會(原:中華民國真空科技學會)
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