In situ X-Ray Analysis of Materials Growth and Processing

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篇名	In situ X-Ray Analysis of Materials Growth and Processing
作者	P.H. Fuoss (P.H. Fuoss)、R.-V. Wang (R.-V. Wang)、J.A. Eastman (J.A. Eastman)、D.D. Fong (D.D. Fong)、G.B. Stephenson (G.B. Stephenson)、S.K. Streiffer (S.K. Streiffer)、Carol Thompson (Carol Thompson)、F. Jiang (F. Jiang)、G.-W. Zhou (G.-W. Zhou)、L.E. Rehn (L.E. Rehn)、P.M. Baldo (P.M. Baldo)、L.J. Thompson (L.J. Thompson)
英文摘要	Synchrotron techniques provide versatile analysis capabilities for the in situ study of materials processing and, in particular, epitaxial growth of materials. This paper provides an overview of our application of x-ray scattering and spectroscopy techniques for in situ analysis of materials processing.
起訖頁	69-74
刊名	真空科技
期數	200508 (18:2期)
出版單位	台灣真空學會（原：中華民國真空科技學會）
該期刊-上一篇	Towards Multifunctional Photonic Integrated Circuits: MBE-grown Epitaxial Structures and Processes
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