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真空科技
200704 (19:4期)
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篇名
以射頻磁控濺鍍法製備鋰錳氧化物陰極薄膜及其表面改質之研究
作者
陳振崇
、
邱國峰
、
林昆明
、
林新智
、
張巍耀
中文摘要
本研究利用射頻磁控濺鍍法沉積鋰離子二次電池之LiMn2O4正極薄膜材料,藉由不同大氣退火及表面離子轟擊處理,以獲致LiMn2O4材料最佳性質的製程與方法。實驗結果顯示,大氣退火熱處理可使沉積LiMn2O4薄膜具有較佳結晶性,若將試片置於壓力於1×10-2 Torr以上之純氧氣氛環境中,並於其表面施以電漿離子轟擊,可使薄膜電阻率下降,且將射頻電源功率控制於30W時有最佳電化學性質,其電容量約可達104 mAh/g。
起訖頁
61-66
關鍵詞
鋰錳氧化物(LiMn2O4)
、
射頻電漿處理(radio frequency plasma treatment)
刊名
真空科技
期數
200704 (19:4期)
出版單位
台灣真空學會(原:中華民國真空科技學會)
該期刊-上一篇
真空電漿與化學溶液表面改質整合技術之超微奈米晶種開發與應用
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台灣真空學會九十五年度年會壁報論文摘要
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