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篇名
使用TE11模式微波之磁旋諧振電漿/離子源之研究發展
作者 甯逢春胡瑗林滄浪
中文摘要
本項研究為利用自製的2.45 GHz磁控管微波源,加上電磁鐵產生的軸向發散磁場,製作直徑10公分大的微波電子磁旋共振電漿/離子源。磁控管和微波元件裝設集中在一段導波管上,設計適當的微波耦合器,可以匹配電漿阻抗,提高微波能源效率,製成高密度電漿源。加上離子引出用的柵極組,可作成離子束流源。利用蘭密爾(Langmuir)探針量測電漿電流密度及電子溫度。在400瓦的微波功率,1×10-3 mbar氬氣氣壓下,在出口下方15公分處可量得有1.5×1011 cm-3的電漿密度,在直徑20公分區域內的電漿均匀度可達±5%。
英文摘要
We have presented a 10cm - diameter microwave electron cyclotron resonance plasma/ion source. The electromagnetic coils are used to provide an axial divergent magnetic field running through the source region. A magnetron from a microwave oven together with the necessary microwave components are assembled on one section of a rectangular waveguide to form the compact microwave source. The special coupling applicator is used to match the plasma impedance to the microwave source. The plasma source can be modified to an ion source by adding an extraction grid system. The Langmuir probe system is used to measure the plasma density and electron temperature, The Argon plasma density is 1.5×1011 cm-3 at 15cm downstream under the condition of 400 watt microwave power and 1×10-3 mbar chamber pressure. The plasma density uniformity can reach ±5% across 20cm diameter there.
起訖頁 51-58
刊名 真空科技  
期數 200404 (16:4期)
出版單位 台灣真空學會(原:中華民國真空科技學會)
該期刊-上一篇 熱處理對平面顯示器用鋁合金薄膜特性之研究
 

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