離子束輔助製程參數對雙色分光鏡光學性質之影響

本研究探討薄膜光學設計及離子束輔助電子槍蒸鍍系統製程參數對雙色分光鏡光學性質之影響。實驗中分別選擇不同光學材料以TFCale軟體進行膜堆設計，並於鍍膜過程中控制腔體真空度、基板溫度、通氧量與離子源強度等參數製鍍元件，以光學及顯微儀器量測分析。結果顯示隨著腔體真空度增加並輔以離子源助鍍，薄膜表面粗糙度較低且較無孔洞產生，離子源功率過大時薄膜表面粗糙度反而變差，而適當通氧量提升薄膜結構緻密性；另經分光光譜儀量測離子源助鍍之元件，於不同溫溼度環境，其反射光譜無明顯飄移現象。