電子束灰階微影技術應用於次微米光學繞射元件之製作

電子束微影技術為下一世代微影技術中的關鍵角色之一，藉由電子束微影技術所製作出來的各式奈米結構，構築了與真實奈米世界相互溝通的橋樑。本研究結合電子束直寫及灰階微影技術，突破傳統微影技術僅能應用於平面圖案的限制，可在適當的阻劑（如PMMA）上製作出高度呈現灰階變化的光學元件母模，並配合電鑄及壓模製程，在高分子基材上大量翻印製作精度可達次微米的光學繞射元件，以降低整體製作成本。本研究將此一技術應用於可產生虛擬鍵盤投影的四階全像片製作上，並經定性量測其所製作之全像片確能產生虛擬鍵盤之影像投射。