鈷／氧化鈦顆粒合金多層薄膜的磁阻特性研究

穿遂磁阻薄膜可用在磁性記憶體與硬碟讀寫頭上，近來已被廣泛的研究探討磁性多層膜的微結構和膜層間的耦合交互作用。本研究以直流與射頻磁控濺鍍製作Si/TiO2/Co顆粒合金多層膜，並在不同退火溫度下做熱處理，觀察多層膜的結構與磁阻特性。實驗利用X光繞射儀（XRD）、穿透式電子顯微鏡（TEM）分析薄膜的微結構、相變化與成份。並利用四點探針測量外加磁場下試片的磁阻變化；震動試樣磁力計（VSM）觀察多層膜的飽和磁場強度與膜層間的耦合作用。