在半導體製造上，Scientific Semiconductor Manufacturing之再現，是為了提高信賴性、均一性、再現性，並達成最低不良率目標所不可或缺的要素。這並非依靠經驗、感覺，而是在強力科學佐證之下，來確立半導體製造技術。而達成上述目標的三項原則是：1. Ultra clean Wafer Surface（Wafer表面Ultra Clean化）2. Ultra clean Process Environment（製程環境為Ultra Clean化）3. Perfect Parameter Controlled Process（由參數完全控制製程） |
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