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篇名
遵守摩爾定律的FD-SOI技術
作者 Laurent Remont (Laurent Remont)
中文摘要
按照摩爾定律,晶片可容納的電晶體數量每兩年提高一倍。然而,摩爾定律不只是在同一顆晶片上將電晶體數量增加一倍的技術問題。摩爾定律暗示,隨著晶片集成密度翻倍,功耗和性能都將會實現大幅度改進。在過去50年裡,半導體工業一直按照摩爾定律發展,因為晶片的三個要素——價格、功耗和性能始終牽一髮動全身。在可預見的未來,半導體工業雖然能夠繼續證明摩爾定律的正確性,但是,當發展到當今最先進的28奈米技術節點以下時,卻遭遇逆風阻擋前進步伐,因為在28奈米以後,技術複雜程度和製造成本都將大幅提升。綜合考慮價格、功耗和性能三個要素,完全空乏型矽絕緣層金氧半電晶體元件(FD-SOI)是晶片製程向10奈米技術節點發展的最佳選擇。
起訖頁 94-96
刊名 CTIMES:零組件雜誌  
期數 201409 (275期)
出版單位 CTIMES(遠播資訊股份有限公司)
該期刊-上一篇 賽靈思的多節點製程市場策略
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