我國智慧財產法院對於設計專利的侵害鑑定是依據「專利侵害鑑定要點(草案)」之新式樣專利鑑定流程辦理,該要點是2004年10月5日經濟部智慧財產局函送司法機關鑑定參考之用。新式樣專利侵害之鑑定流程分為兩階段:(一)解釋申請專利之新式樣範圍,(二)比對解釋後申請專利之新式樣範圍與待鑑定物品(如表一所示)。第三章鑑定方法說明:「解釋申請專利之新式樣範圍」之目的在確認申請專利之新式樣範圍及其新穎特徵,以合理界定專利權範圍。新穎特徵是指申請專利之新式樣對照申請前之先前技藝,客觀上使其具有新穎性、創作性等專利要件之創新內容。