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科技与法律
201002 (2010:1期)
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篇名
現有技術抗辯制度本質論
並列篇名
The Essence of Prior Art Plea
作者
張鵬
中文摘要
現有技術抗辯制度與無效制度不同,其理論基礎在於善意第三人可得利益的保護,亦即在被控侵權人為善意的情況下,其具有通過檢索等方式,合法獲得涉案專利申請日之前公開的自由公知技術的可得利益;且具有通過獲得涉案專利申請日之前公開的專利的專利權人實施許可等方式,合法使用在先專利的可得利益。
起訖頁
42-46
關鍵詞
現有技術抗辯
、
善意第三人
、
私法利益
、
專利糾紛解決機制
刊名
科技与法律
期數
201002 (2010:1期)
出版單位
中國科學技術法學會
該期刊-上一篇
從“發明”的技術性特徵看電子商業方法的可專利性
該期刊-下一篇
論美國電影標題的法律保護及電影標題仲裁體制
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