篇名 | 韓國圖像設計近期改革介紹 |
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作者 | 徐銘夆 |
中文摘要 | 隨著新興顯示技術引領我們進入電影「一級玩家」般的虛擬世界,未來投影式介面勢將成為沉浸式體驗的新寵兒。為此,日本及我國先後在2019、2020年將投影式圖像納入設計保護對象,而韓國也緊隨國際情勢調整法制與審查實務。鑑於該國設計保護制度向來以靈活多變著稱,本文爰以圖像設計為探討中心,介紹2021年韓國修法重點及2023年甫公布之審查基準對應措施,文末則就臺、韓實務進行比較。 |
起訖頁 | 31-60 |
刊名 | 專利師 |
出版單位 | 中華民國專利師公會 |
期數 | 202307 (54期) |
DOI | 10.53106/221845622023070054003 複製DOI DOI申請 |
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