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| 篇名 | 我國設計專利侵害判斷流程與分析方法之再檢討 |
|---|---|
| 作者 | 葉雪美 |
| 中文摘要 | 我國智慧財產法院對於設計專利的侵害鑑定是依據「專利侵害鑑定要點（草案）」之新式樣專利鑑定流程辦理，該要點是2004年10月5日經濟部智慧財產局函送司法機關鑑定參考之用。新式樣專利侵害之鑑定流程分為兩階段：(一)解釋申請專利之新式樣範圍，(二)比對解釋後申請專利之新式樣範圍與待鑑定物品（如表一所示）。第三章鑑定方法說明：「解釋申請專利之新式樣範圍」之目的在確認申請專利之新式樣範圍及其新穎特徵，以合理界定專利權範圍。新穎特徵是指申請專利之新式樣對照申請前之先前技藝，客觀上使其具有新穎性、創作性等專利要件之創新內容。 |
| 起訖頁 | 30-89 |
| 關鍵詞 | 設計專利侵害鑑定、專利侵害鑑定要點、新式樣專利鑑定流程 |
| 刊名 | 專利師 |
| 出版單位 | 中華民國專利師公會 |
| 期數 | 201407 (18期) |
| DOI | 10.3966/221845622014070018003 複製DOI DOI申請 |
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