大面積批量式原子層沉積設備與製程技術

Large-area batch atomic layer deposition equipment and process technology

本文介紹一多片式電漿化學氣相沉積及原子層沉積雙製程鍍膜設備，具有雙製程模組，可完成多片式薄膜沉積製程。藉由腔體內部電場及流場均勻分布設計，達到多片式基板鍍膜的均勻效果，雙製程共用氣體擴散板產生電漿反應，在五區170片M10尺寸晶圓上完成氧化鋁薄膜的沉積，並達到良好的薄膜均勻性，藉以實現大面積PECVD與PEALD雙製程共腔之技術建置，將可應用於大面積M10尺寸高效矽晶太陽電池等元件之試生產及研發。