估算蒸鍍速率以提升膜厚控制準確度之研究

本研究以比例法之膜厚控制為基礎，輔以程式評估480-900 nm波段穿透率變化計算蒸鍍速率以修正停鍍點閥值，並經薄膜設計軟體模擬分析介電質材料（TiO2）由蒸發源到基板的行進時間（s）與蒸鍍速率（nm/s）等因素對膜厚誤差之影響，以改良光學膜厚監控之準確度。結果顯示，除tooling factor外，亦須考慮真空腔內殘存材料蒸氣所造成之過鍍效應。相較於純粹使用比例法，可提供鍍膜監控的另一項參考依據。