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篇名
半鑲嵌金屬化:後段製程的轉折點?
作者 imec (imec)
中文摘要
當半鑲嵌製程與像是釕(Ru)等可圖形化金屬並用時,預計會在RC延遲、面積、成本和功率效率方面帶來高效益,提供了一條微縮內連導線的發展道路。
本文回顧這個概念的價值主張、總結最頂尖的釕(Ru)半鑲嵌技術之挑戰和潛在解決方案,並呼籲產學界合作排除導入業界的發展障礙。
起訖頁 14-24
刊名 CTIMES:零組件雜誌  
期數 202501 (398期)
出版單位 CTIMES(遠播資訊股份有限公司)
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