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篇名
imec觀點:微影圖形化技術的創新與挑戰
作者 imec (imec)
中文摘要
此篇訪談中,比利時微電子研究中心(imec)先進圖形化製程與材料研究計畫的高級研發SVP Steven Scheer以近期及長期發展的觀點,聚焦圖形化技術所面臨的研發挑戰與創新。
起訖頁 12-16
刊名 CTIMES:零組件雜誌  
期數 202306 (379期)
出版單位 CTIMES(遠播資訊股份有限公司)
該期刊-上一篇 社會準備好面對新一波AI變革的衝擊了嗎?
該期刊-下一篇 從影響、範圍及平衡來探討永續──半導體和軟體如何引領永續發展
 

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