2008年國家奈米元件實驗室

為建置與世界一流研究機構接軌的開放式實驗研究環境，實驗室規劃將現有老舊且維修困難的六吋儀器設備汰舊換新，建置為八吋相容的核心試驗線。目前已完成多部機台的改裝、製程測試與開放，其中包含TCP 9600金屬蝕刻機（MetalEtcher）、UNAXIS SiGe超高真空化學分子磊晶系統（UHVCVD）、ELIONIX電子束直寫系統（E-beam Writer）等設備；並完成電子束蒸鍍系統（E-gun）、水平爐管（Furnace）、物理氣相沉積系統（PVD）、電感耦合式蝕刻機（ICP etcher）等四部設備評估與採購，其中電子束蒸鍍系統及水平爐管已完成建置，並開放使用。