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篇名
創新FDSOI能帶調製元件雙接地層Z2FET
作者 H.El Dirani (H.El Dirani)P. Fonteneau (P. Fonteneau)Y. Solaro (Y. Solaro)P. Ferrari (P. Ferrari)S. Cristoloveanu (S. Cristoloveanu)
中文摘要
今天,全耗盡型絕緣層上矽(FDSOI)CMOS技術因超高開關速度、超低功耗(ULP)和適中的成本而引起業界廣泛的關注。在這種情況下,物聯網(IoT)和射頻用超薄體矽BOX層(UTBB)元件預計達數十億個。這項先進技術有很多特點。超薄元件將會受益於可調閾壓值、低洩漏電流和優化的寄生電容、遷移率和亞壓值斜率(SS)。
起訖頁 99-103
刊名 CTIMES:零組件雜誌  
期數 201803 (317期)
出版單位 CTIMES(遠播資訊股份有限公司)
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