美國《半導體晶片保護法》研究

1984年11月8日，由美國國會通過的《半導體晶片保護法》正式生效，開始對體現在半導體晶片產品中的“光罩作品”(mask work)或集成電路布圖提供保護。這是當時世界上唯一對光罩作品或集成電路布圖提供保護的法律。自此以後，這部法律不僅影響了日本、韓國、加拿大、英國、澳大利亞等國和當時的歐盟成員國的立法，而且影響了世界智慧財產權組織的《集成電路智慧財產權條約》和世界貿易組織的《與貿易有關的智慧財產權協議》。時至今日，對集成電路布圖提供特別權利的保護，已經成為世界貿易組織所有成員的義務。